超低溫恒溫槽(-60℃~90℃)應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用,可以提供熱冷受控,溫度均勻恒定的液體環(huán)境,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃。
低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~90℃),MD20-12,容積12L,控溫范圍-20℃~90℃,高至溫度100℃,作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用.
低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~90℃)可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,低溫測(cè)量和檢定,樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用。
低溫恒溫循環(huán)槽MD10-8 低溫恒溫槽提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
低溫恒溫水槽-5℃~90℃,MD5-30提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
MD30-30加熱制冷浴槽(-30℃~90℃),容積30L,控溫范圍-30℃~90℃,用于石油化工、制藥及半導(dǎo)體工業(yè)等領(lǐng)域低溫測(cè)量與檢定,樣品保存等浸入式實(shí)驗(yàn)或外循環(huán)應(yīng)用
MD5-12低溫恒溫循環(huán)槽(-5℃~90℃)提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度±0.05℃。
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