加熱制冷循環(huán)器(-20℃~180℃)$n實現(xiàn)高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達(dá)到±0.1℃, 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
高低溫恒溫槽(-40℃~180℃)實現(xiàn)高溫195℃,用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用,低使用溫度-40℃
MGD40-30-高低溫恒溫循環(huán)槽(-40℃~180℃)為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應(yīng)用于-40℃~180℃(高至溫度195℃)石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對反應(yīng)釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用
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